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氢氟酸作为氟化氢气体的水溶液,因其高的腐蚀性和对硅表面氧化物的高效去除能力,成为半导体制造和玻璃蚀刻行业中重要的化学材料。然而,其高腐蚀性和浓度控制的严苛要求,也使氢氟酸的快速、准确测定成为行业关注的重点。传统分析方法操作复杂、安全性低,难以满足现代工业对高效分析的需求。针对这一...
 2025-09-04
2025-09-04  
                自动电位滴定仪作为现代化学分析领域的重要工具,正逐步改变着传统实验的操作模式。它以精准高效的自动化特性,在科研、质检及工业生产中展现出优势。这一仪器的核心价值在于将复杂的手工滴定过程转化为可编程控制的智能流程,既提升了数据可靠性,又大幅缩短了检测周期。该设备的运行原理植根于电化学基础理论。当向待测溶液中逐次加入标准试剂时,溶液中的离子浓度发生动态变化,这种变化会引发工作电池两端产生对应的电位差。通过高灵敏度的指示电极与稳定的参比电极组成的测量系统,能够实时捕捉这些细微的毫伏级...
在半导体行业,双氧水作为一种关键的化学品,广泛应用于半导体晶体片的清洗、腐蚀以及光刻胶的去除等重要工序。其纯度和浓度的精准控制,直接关系到集成电路的成品率、电性能及可靠性。因此,对双氧水浓度的准确测定显得尤为重要。今天,就让我们一起了解一下如何使用CT-1PLUS电位滴定仪来测定双氧水的浓度,为半导体行业的品质把控提供有力支持。一、仪器与试剂准备要进行双氧水浓度的测定,首先需要准备好以下仪器和试剂:-仪器配置:CT-1PLUS电位滴定仪,搭配ORP-101C电极和20mL高精...
关键词:硫酸钴/GBT26523行业:新能源/化工CT-1Plus电位滴定测定硫酸钴的钴含量摘要硫酸钴是一种常见的钴化合物,通常以七水硫酸钴(CoSO₄·7HO)的形式存在。它在化学实验中有广泛应用,常用作催化剂、制备其他钴化合物(如钴酸盐和钴氧化物),以及在电镀和染色等工业应用中。本例通过电位滴定法测定一种硫酸钴样品的钴含量。仪器配置●CT-1Plus电位滴定仪●ORP-101C电极●20mL高精度计量管●100mL滴定杯试剂配置●滴定剂:钴标准溶液●滴定度:3g/L●溶剂...
关键词:氯化钴/GBT26525行业:新能源/化工CT-1Plus电位滴定测定氯化钴的钴含量摘要氯化钴,一种重要化工原料,常以六水合物的形式存在,广泛应用于催化剂制备,电镀,电池,医药合成等领域。本例通过电位滴定法测定一种氯化钴样品的钴含量。仪器配置●CT-1Plus电位滴定仪●ORP-101C电极●20mL高精度计量管●100mL滴定杯试剂配置●滴定剂:钴标准溶液●滴定度:3g/L●溶剂:氨水/柠檬酸铵混合液●其它试剂:氯化铵/铁氰某化某钾标准溶液(0.05mol/L)测定...
实验室滴定仪是一种通过精确测量滴定剂的消耗量来定量分析样品中某种成分浓度的经典且至关重要的分析仪器。它实现了滴定过程的自动化、数字化和精确化,取代了传统的手动滴定和肉眼判断终点。一、核心工作原理滴定分析的本质是:将一种已知准确浓度的试剂(滴定剂)通过滴定管逐滴添加到被测物质的溶液中,直到两种物质的摩尔数恰好相等。通过测量消耗的滴定剂体积,计算出被测物的含量。实验室滴定仪的核心价值在于如何精确、客观地判断这个终点。它取代了人眼观察...
关键词:镀铜槽液行业:半导体MT-V6自动电位滴定仪电位滴定测定镀铜槽液硫酸摘要在镀铜工艺中硫酸能起到防止铜盐水解、提高镀液导电能力和阴极极化的作用,准确测定槽液中硫酸浓度对于电镀工艺控制十分重要,本试验通过MT-V6自动电位滴定分析仪来测定镀铜槽液中的硫酸含量。仪器配置●MT-V6电位滴定仪●pH-102复合电极●20mL高精度计量管●100mL滴定杯试剂配置●滴定剂:氢氧化钠标准溶液●滴定度:0.1mol/L●溶剂:纯水测定方法●酸碱滴定/电位滴定●取适量样品于称量瓶中,...
关键词:镀铜槽液行业:半导体MT-V6自动电位滴定仪电位滴定测定镀铜槽液铜离子摘要镀铜槽液铜离子的经典测定方法为容量滴定法,络合滴定是其中常用方法之一。本试验通过MT-V6自动电位滴定仪来测定某镀铜槽液铜离子含量。仪器配置●MT-V6电位滴定仪●Cu-101&R-101D●20mL高精度计量管●100mL滴定杯试剂配置●滴定剂:EDTA标准溶液●滴定度:0.1mol/L●溶剂:纯水●反应剂:氨氯化铵缓冲溶液测定方法●络合滴定/电位滴定●称取一定量试样于烧杯中,再加50mL纯水...
关键词:双氧水行业:半导体CT-1Plus电位滴定测定双氧水的浓度摘要双氧水在半导体行业中主要用作半导体晶体片的清洗剂、腐蚀剂和光刻胶的去除剂,用于电子工业制取高级绝缘层、去除电镀液中无机杂质,以及半导体材料制造工序的处理等,它的纯度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。本例通过电位滴定法测定一种双氧水的浓度。仪器配置●CT-1Plus电位滴定仪●ORP-101C电极●20mL高精度计量管●100mL滴定杯试剂配置●滴定剂:高某锰某酸某钾标准溶液(1/5KM...
关键词:蚀刻液行业:半导体MT-V6自动电位滴定仪电位滴定测定混酸含量——硝酸氢氟酸摘要在半导体制造领域,刻蚀技术是实现微电子器件精细加工的关键步骤之一。半导体湿法刻蚀工艺,简称湿法刻蚀,是一种通过化学溶液来去除晶圆表面特定材料层的技术。这种工艺利用化学反应来精确地控制材料的形状和尺寸,以满足半导体器件的制造要求。本文主要介绍通过MT-V6自动电位滴定仪来测试硝酸/氢氟酸蚀刻液体系的含量。仪器配置●MT-V6电位滴定仪●pH102电极(or锑电极)●20mL高精度计量管●10...
关键词:氢氟酸行业:半导体MT-V6自动电位滴定仪颜色滴定测定氢氟酸浓度(高)摘要氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,具有腐蚀性,常用来蚀刻玻璃,可以雕刻图案、标注刻度和文字;半导体行业用来除去硅表面的氧化物。本实验通过MT-V6颜色滴定测定氢氟酸的浓度。仪器配置●MT-V6电位滴定仪●高清摄像头●20mL高精度计量管●100mL滴定杯●滴定单元1试剂配置●滴定剂:氢氧化钠标准溶液●滴定度:0.5mol/L●指示剂:1%酚m酞溶液●溶剂:纯水测定方法●酸碱中和/颜色滴定●称取一定量试...
在半导体制造和微电子器件领域,光刻过程是至关重要的环节,而显影液作为该过程中的关键化学材料,其性能直接影响着最终产品的质量。显影液的主要成分是四甲基氢氧化铵(TMAH),它的核心作用是去除光刻胶中未固化的部分,从而在基材上精准形成所需的图案。因此,准确测定显影液中四甲基氢氧化铵的浓度,对于保障光刻工艺的稳定性和产品质量具有重要意义。本文将介绍一种利用MT-V6电位滴定仪测定显影液中四甲基氢氧化铵浓度的方法。一、仪器配置本次实验所使用的仪器配置如下:·MT-V6电位滴定仪:作为...
延长容量法卡尔费休水分仪的使用寿命,需从日常操作规范、部件维护、环境控制等多方面入手,具体措施如下:一、核心部件的维护与保养滴定池与电极每次实验后,用无水甲醇冲洗滴定池和电极,去除残留样品(尤其是含强腐蚀性、粘稠性的样品),避免残留物质腐蚀池体或污染电极。电极需定期检查:若铂电极表面有污垢,用软布蘸无水乙醇擦拭;长期不用时,将电极浸泡在无水甲醇中(避免干放导致灵敏度下降)。滴定池密封圈若老化(如出现裂纹、弹性变差),及时更换,防止漏气导致空气中水分进入。滴定管与管路避免试剂结...
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